应用详情
应用简报
使用 spICP-MS/MS 对半导体制程化学品进行多元素纳米颗粒分析
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- 日期 : 2019 年 6 月 10 日
- 文件大小 : 630.91 KB
使用 ICP-MS/MS 直接分析高纯硝酸中的痕量金属杂质
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- 日期 : 2019 年 4 月 19 日
- 文件大小 : 476.10 KB
使用 ICP-MS/MS 分析高纯盐酸中的痕量金属杂质
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- 日期 : 2019 年 4 月 19 日
- 文件大小 : 466.98 KB
资料库
- 重要资料
-
测量半导体制造中的无机杂质
ICP-MS 半导体行业中的应用指南,本指南包括金属污染物的控制
- 应用简报
- Chinese (Simplified)
- 2019 年 4 月 17 日
- 16.99 MB
安捷伦 ICP-MS 期刊, 2018 年 4 月,第 72 期
ICP-MS 技术,创新及应用季刊
- 电子期刊
- Chinese (Simplified)
- 2018 年 4 月 26 日
- 909.28 KB
利用 7700s/7900 ICP-MS 直接分析高纯度盐酸中的痕量金属杂质
展示了 Agilent 7700s/7900 ICP-MS 在直接测定高纯度盐酸 (HCl) 中金属杂质方面的卓越分析性能与稳定性。
- 应用简报
- Chinese (Simplified)
- 2019 年 4 月 4 日
- 452.80 KB
使用 Agilent 8900 ICP-MS/MS 测定高纯度过氧化氢中的超痕量元素
半导体级 H2O2 中超痕量元素杂质的测定
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- Chinese (Simplified)
- 2019 年 4 月 19 日
- 383.50 KB
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