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快速、准确、可靠地分析半导体中的无机杂质

半导体器件制造需要严格控制污染源,因为即使是痕量级污染物也会导致产量损失或产品缺陷。监测和控制晶圆、CMP 浆料、金属互连件、稀土材料、光刻胶、制程化学品和电子气体或显示材料和前体中的痕量金属和颗粒污染至关重要。40 多年来,安捷伦一直是半导体和电子行业的合作伙伴,并且不断创新以满足该行业快速发展的各种需求。我们的高性能分析仪器、应用和工作流程、技术支持和服务可帮助您满足半导体杂质检测要求,从而提高产量。

如果您对半导体中的无机杂质分析有任何疑问或希望与安捷伦客户服务中心联系,请通过下面的方式联系我们。

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半导体中的无机杂质应用

晶圆和半导体材料杂质分析

监测和控制晶圆、CMP 浆料、互连件、稀土元素材料和光刻胶化学品中的痕量污染至关重要。

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半导体制程化学品杂质分析

痕量污染物对制造有不利影响。了解更多有关半导体制程化学品中杂质分析检测的信息。

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电子气体中的杂质分析

用于直接分析电子气体中杂质检测的新型、高效且出色的方法。

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半导体中的颗粒分析

用于监测化学品原料、晶圆加工和清洁浴槽中的金属纳米颗粒 (NP) 和溶解态金属的解决方案。

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