7800 ICP-MS

Features

일상적인 금속 분석을 빠르게 추적 – ICP-MS MassHunter 소프트웨어에는 플라즈마 조건에서 분석물질 통합 시간과 내부 표준까지 사전 정의된 설정과 함께 간단히 로딩하고 실행할 수 있는 사전 설정된 분석법이 포함되어 있습니다. 새로운 분석법의 경우 분석법 마법사가 시료 유형과 응용에 기반해 분석법을 구성합니다.
시료 전처리 간소화 – 7800 ICP-MS의 표준으로 제공되는 고유한 고매트릭스 주입(HMI) 기술을 사용하면, 최대 3%의 총 용존 고형물(TDS)을 포함하고 있는 시료를 희석 없이 분석할 수 있어 시료 전처리가 감소하고 시간이 절약됩니다.
신호 억제 최소화 – HMI 기술은 시그널의 억제를 줄이므로 시료와 매트릭스를 검량 표준물질과 일치시키지 않아도 고매트릭스 시료를 정확하게 측정할 수 있습니다.
효과적인 간섭 제거를 통한 정확한 데이터 보장 – 헬륨(He) 충돌 모드는 일관된 단일 조건에서 모든 다원자 이온 간섭을 제거하여 분석법 개발과 일상적인 운영을 간소화합니다. 헬륨(He) 모드에는 매트릭스별 또는 분석물질별 반응 셀 조건이 필요하지 않습니다.
한 번의 실행으로도 주요 및 극미량 분석 물질 분석 – 측정 범위가 넓은 90도 회절 검출기 시스템(ODS)을 이용하면 단 한 번의 실행으로 주 원소(100s 또는 1000s ppm) 및 극미량 분석물질(single-ppt 또는 sub-ppt)을 직접 분석할 수 있습니다. 농도 상한이 높을수록 범위를 벗어난 결과로 인한 시료 재분석이 줄어듭니다.
처리량 및 생산성 극대화 – 옵션인 일체형 시료 주입 시스템(ISIS 3)(옵션)과 SPS 4 자동 시료 주입기는 데이터 품질을 훼손시키지 않고 분석당 비용을 절감합니다.